국내 연구진, 물질 균열 제어기술개발
국내 연구진, 물질 균열 제어기술개발
  • 김재석
  • 승인 2012.05.11 06:46
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나노 소자 상용화에 큰 계기를 마련

이화여대 남구현 교수와 카이스트 고승환 교수 연구팀은 실리콘으로 된 판 위에 질화규소를 얇게 쌓아 원하는 위치에 균열을 발생시키는 데 성공했다고 밝혔다.

연구팀은 균열을 효과적으로 제어해 머리카락보다 가는 나노 크기의 채널을 만들었고, 이를 이용해 글씨를 쓸 수 있도록 기술을 발전시켰다고 설명했다.

이 기술을 앞으로 메모리와 전자소자, 나노 반도체 제작 공정에 활용할 수 있을 것으로 연구팀은 기대했다.

이번 연구는 세계적인 과학학술지 '네이처' 오늘자 표지 논문으로 실렸다.

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김재석 khs4096@koreanewstoday.co.kr

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